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真空等離子氮化+PVD涂層

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PVD是英文PhysicalVapor Deposition(物理氣相沉積)的縮寫 ,是指在真空條件下 ,采用低電壓、大電流的電弧放電技術 ,利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質與氣體都發(fā)生電離 ,利用電場的加速作用 ,使被蒸發(fā)物質及其反應產物沉積在工件上 。
產品詳情

  概述:等離子氮化 +PVD涂層(簡稱: PN+PVD)的組合涂層技術 。PN +PVD涂層的組合處理工藝是一種較新型工藝 ,將等離子氮化與PVD涂層技術結合在一起 ,先在模具表面做一層離子氮化層 ,使模具表 面硬度達到維氏硬度1000HV左右 ,然后再在離子氮化層表面沉積 一層硬度在2000 - 6000HV左右的 PVD涂層 。這樣的表面處理技術使的模具由芯部到表層形成了一個非常好的硬度保護和支撐層 。與單純 的等離子氮化技術相比 ,它的硬度更高 ,抗磨損能力更強 。與單純的PVD涂層技術相比 ,它的基體硬度 更高 ,能對表層的PVD涂層形成更加穩(wěn)定的支撐 ,抗拉傷能力更強。

真空等離子氮化+PVD涂層
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PVD是英文PhysicalVapor Deposition(物理氣相沉積)的縮寫 ,是指在真空條件下 ,采用低電壓、大電流的電弧放電技術 ,利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質與氣體都發(fā)生電離 ,利用電場的加速作用 ,使被蒸發(fā)物質及其反應產物沉積在工件上 。
18923769655
產品詳情

  概述:等離子氮化 +PVD涂層(簡稱: PN+PVD)的組合涂層技術 。PN +PVD涂層的組合處理工藝是一種較新型工藝 ,將等離子氮化與PVD涂層技術結合在一起 ,先在模具表面做一層離子氮化層 ,使模具表 面硬度達到維氏硬度1000HV左右 ,然后再在離子氮化層表面沉積 一層硬度在2000 - 6000HV左右的 PVD涂層 。這樣的表面處理技術使的模具由芯部到表層形成了一個非常好的硬度保護和支撐層 。與單純 的等離子氮化技術相比 ,它的硬度更高 ,抗磨損能力更強 。與單純的PVD涂層技術相比 ,它的基體硬度 更高 ,能對表層的PVD涂層形成更加穩(wěn)定的支撐 ,抗拉傷能力更強。

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